硅片旋转冲洗甩干机用于清洗太阳能硅片和半导体硅片,是湿法清洗工艺的主要设备,目前主要机型由四工位,六工位和八工位系列。主要工作过程为:喷淋旋转冲洗+离心甩干+氮气加热烘干:


【结构特点】 1、整个甩干过程一般只需要5-6分钟; 2、设备的外露面为进口的PP板,外形美观,耐酸气腐蚀; 3、工作腔,旋转支架和装片盒等主要部件采用耐腐蚀不锈钢,并且表面电化学抛光处理; 4、旋转机构经过精密动平衡处理,保证工作时的平衡性; 5、采用特种减震器,精密减震和阻尼,保证系统的稳定; 6、采用洁净化处理技术,阀门,接头和管道采用不锈钢,PEA高纯管件和聚四氟; 7、采用油压缸自动开门关门,平稳安全可靠; 8、采用油浴炉或气体加热器加热氮气,热量足,温度稳定,加热温度实时监控,并显示在液晶屏上,并有双重安全保护; 9、特制喷头和气液流体控制系统,全自动切换; 10、顶盖采用电加热板辅助加热,保证顶盖烘干后不滴水; 11、工作腔采用静电控制。
【电气控制】 1、采用PLC可编程控制器和触屏控制,整个过程智能化; 2、程序设计可靠,速度调节,温度调节和时间调节等都可以在触摸屏上设定,修改和保存; 3、采用变频技术控制转速,加减速平稳,清洁和甩干速度按工艺要求设定,并实时显示在液晶屏上; 4、采用电子制动,制动时间控制在15秒内; 5、控制软件具有故障实时显示和报警功能; 6、采用了工作过程状态监控,门位置状态监控与互锁,氮气加热温度实时监控,紧急停止按钮等安全措施。
【技术参数】
型号
|
半导体行业 |
太阳能行业 |
FJ455 |
FJ655 |
FJ855 |
工作腔数量 |
4 |
6 |
8 |
硅片规格 |
2.5“、3”、4“、5”、6“ |
125,156 |
125,156 |
旋转速度 |
0-1000 |
0-900 |
0-900 |
氮气压力 |
0.3 |
去离子水压力 |
0.3 |
电阻率监控 |
可选 |
可选 |
氮气密封 |
有 |
有 |
空/氮气烘干 |
有 |
有 |
氮气加热方式 |
热传导 |
热传导 |
油浴炉温度 |
30-120℃ PID控温 |
30-120℃ PID控温 |
辅助加热系统 |
有 |
有 |
腔体电化抛光 |
有 |
有 |
电机驱动 |
变速调频 |
变速调频 |
控制系统 |
PLC可编程控制器 |
控制显示器 |
液晶触摸屏 |
外形尺寸(长*宽*高) |
1040*1100*900 |
1250*1300*980 |
1250*1300*980 |
电源功率 |
5 |
6 |
6 |
电压/频率 |
AC380 50HZ (三相四线) | |